模板制作

在将微纳结构用于具有功能化表面的产品之前,这些结构必须采用模板制作工艺生产。为此我们配备了激光干涉光刻和紫外线光刻。

 

Laser interference lithography and UV lithography for the mastering process | Mastering

激光干涉光刻/紫外线光刻

我们采用激光干涉光刻和紫外线光刻实现大量的微米结构和纳米结构。通过这些技术,可以对 200nm 和几百微米范围内的结构进行制模。

激光干涉光刻将周期性或随机结构模板无缝实现在最大 1m² 的面积上。通过紫外线光刻可以将任意形状的微结构加工到最大 20" x 24” 的面积上。

 

联系人

最大

20"x 24"

紫外线光刻
最大

1

激光干涉光刻
大于

200nm

范围